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申请集成电路布图设计专有权的三个必备条件
我国自2001年开始对集成电路布图设计进行专有权保护,于2001年4月2日由国务院公布《集成电路布图设计保护条例》,由国家知识产权局负责其专有权的管理。申请集成电路布图设计专有权保护需要具备以下三个必备条件。
1、集成电路布图设计是一种新的智力劳动成果集成电路布图设计是工程师根据集成电路所要执行指令和达到的功能而设计的集成电路的结构,它只能作为集成电路制造过程中的中间产品,因此,与著作权中的作品、专利权中的发明等智力成果相比,在创作过程和性质上有重大区别。
2、集成电路布图设计必须具备原创性集成电路布图设计若要获得保护,必须具备原创性,但这里所说的原创性,要比著作权法中的原创性意义更广,也可以将其提升到“非常规性”。所谓非常规性就是强调所要求保护的集成电路布图设计对集成电路技术领域制造者、设计者来说,是公认非常规的、有自己的特点和进步性,因此,集成电路布图设计的原创性要求是一种既高于著作权原创性要求,但又低于专利法所规定的创造性要求的标准。而实际上,集成电路布图设计这种原创性要求是生产厂家及设计人员在设计集成电路时必须事先考虑的,因为集成电路布图设计要应用于工业实践中,而且更新换代很快,如果没有自己的独特之处和进步性,则不会有市场竞争的优势,也就没有给予集成电路布图设计保护的必要性。
3、集成电路布图设计是无形的集成电路布图设计是制造集成电路中的电子元件在传导材料衬底上的排列和连接的布局设计,布局设计所体现的内容既可以被固定在磁盘或掩膜上,也可以被固定在集成电路产品中,但这些都是它体现的物质载体,而集成电路布图设计本身是无形的。虽然集成电路布图设计具有知识产权客体所要求的无形性,但它同其他无形财产一样,具有客观的表现形式和可复制性。所以,必须给予法律保护。
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